Analyseurs de plasma pour l’industrie et la recherche

ESPion : Sonde de Langmuir

Un système avancé pour diagnostique et mapping des plasmas. Idéal pour les plasmas RF, les décharges impulsionnelles et les études résolues en temps. Pour les mesures des densités électroniques et ioniques, température électronique, EEDF, potentiel du plasma, potentiel flottant, longueur de Debye.

Analyseurs de plasma

La gamme EQP de spectromètres avec dispersion simultanée d’énergie et de masse pour caractérisation des particules de plasma. Un analyseur électrostatique, en combinaison avec un spectromètre de masse quadrupolaire et source d’ions réglable, permet de détecter les ions positifs et négatifs, les molécules neutres et les radicaux des processus de plasma.

Contrôle et régulation des procédés à plasma

Sonde de gravure ionique (IMP) - un détecteur de point final à sensibilité maximale, qui mesure aussi la pureté du cible, composition du gaz de procédé, et détection des fuites.

Systèmes PSM : Spectromètres de masse à échantillonnage de plasma pour les procédés de dépôt, ablation et gravure sous vide.

Aussi, le système HPR-30 analyseur de gaz de procédé est conçu pour le mesure et régulation des gaz de procédés. Une application particulière est l’asservissement de composition du milieu gazeux dans les procédés de dépôt à gaz réactif. Pour ces systèmes à rétroaction divergente, tels que la pulvérisation réactive, la vitesse du mesure à spectrométrie de masse assure une stœchiométrie uniforme de la couche déposée.

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